图为中芯国际

　　一直以来高端芯片都是中国半导体行业的痛点。毫不夸张地说中国半导体一直是在冒着敌人的炮火匍匐前进。

　　此前，西方一直都有一个针对出口管制的制度安排。该协定包含军用、民用两份控制清单，目的是限制向相关国家出口敏感产品和技术，中国就属于被限制的对象。

　　不仅如此还有一个更加严峻的挑战，对于我国而言，在半导体这个领域中国需要挑战的是西方上百年积累起来的工业体系。难度可想而知。

　　不过也正是由于以美国为首的西方国家对我国的打压，促使我国半导体行业的加速崛起。

　　据多维新闻最新报道，日前我国的半导体产业传来三大好消息。

　　其一是全球最大光刻机生产巨头ASML对外宣布，可以从荷兰向中国出口DUV光刻机，无需美国许可。

　　虽然更高端的EUA光刻机，出口仍然需要得到美国的许可，但是这次被允许向中国出口的DUV光刻机能够解决我国光刻机短缺的燃眉之急。

　　而且在中科院宣布进入光刻机研发领域之后，其也能够为我国自主研发光刻机提供一些可供参照的技术经验，为将来我国在光刻机领域的技术突破打牢坚实的基础。

　　其二是中芯国际官宣完成了FinFET N+1先进工艺的芯片流片和测试，所有IP全部是自主国产，很快就能实现7nm芯片的量产。

　　一直以来存在大家印象中一个既定事实是，光刻机是芯片生产过程中必不可少的核心设备，想要制造出先进的芯片，就必须拥有更高端的EUV光刻机。但是中芯国际的N+1工艺却即将开创使用普通光刻机就能实现7nm芯片的量产的先河。